光大证券-中微公司-688012-系列跟踪报告之四:公司ICP刻蚀设备收入和新增订单高速增长,薄膜沉积设备稳步推进中-220813

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日期:2022-08-13 12:13:33 研报出处:光大证券
股票名称:中微公司 股票代码:688012
研报栏目:公司调研 刘凯  (PDF) 6 页 598 KB 分享者:COC****YU 推荐评级:买入
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研究报告内容
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  事件:

  2022年8月11日,公司发布2022年半年度报告:公司2022H1营业收入为19.72亿元,同比增长47.30%;归母净利润为4.68亿元,同比增长17.94%;扣非归母净利润为4.41亿元,同比增长615.26%;毛利率为45.36%,同比增长3.03pcts;净利率为23.66%,同比减少5.96pcts。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】

  公司2022Q2营业收入为10.23亿元,单季环比增长7.74%,单季同比增长39.08%;归母净利润为3.51亿元,单季环比增长199.18%,单季同比增长35.44%;扣非归母净利润为2.54亿元,单季环比增长36.41%,单季同比增长403.47%;毛利率为45.27%,单季同比增长1.76pcts;净利率为34.18%,单季同比减少1.02pcts。http://www.hibor.com.cn(慧博投研资讯)

  点评:

  22H1公司ICP刻蚀设备收入+414%,新增订单量+62%,实现高速增长。

  公司22H1营收同比+47.3%,主要系公司持续加大研发投入和业务开拓力度,等离子体刻蚀设备及MOCVD设备等核心业务保持了高速和稳定的增长。

  公司22H1扣非归母净利润同比+615.3%,主要系营收和毛利同比均有大幅增长。

  公司22H1归母净利润同比+17.9%,主要系:(1)扣非净利润增加3.79亿;(2)非经常性损益减少3.08亿,变动包括政府补助减少2.03亿以及股权投资收益减少1.77亿(持有中芯国际和天岳先进股票价格下降)。

  分业务来看:ICP刻蚀设备收入同比+414%,实现高速增长。公司22H1刻蚀设备收入为12.99亿元,同比+51.5%,毛利率达到46.05%,其中CCP刻蚀设备收入8.86亿元,同比+14.0%,ICP刻蚀设备收入4.13亿元,同比+414.1%;公司22H1MOCVD设备收入为2.41亿元,同比+9.9%,毛利率达到35.42%,同比+4.65%。

  从订单情况来看:新增订单同比+61.8%,合同负债环比+6.3%,存货环比+18.7%。公司22H1新签订单金额达30.57亿元,同比+61.8%;合同负债为15.94亿元,环比+6.3%;存货为24.87亿元,环比+18.7%。

  刻蚀设备:CCP刻蚀设备持续提升市场率,ICP刻蚀设备出货量保持高速增长。

  CCP刻蚀机:公司CCP刻蚀设备持续提升市场占有率,在部分客户市占率已进入前三位。在先进逻辑电路方面,成功取得5纳米及以下的重复订单。在存储电路方面,在64层、128层及更高层数3DNAND的生产线得到广泛应用,并积极布局在动态存储器的应用,已经取得客户批量订单。公司去年推出首台用于8英寸晶圆加工的CCP刻蚀设备,在国内多家客户已累计收到超过30腔订单。

  ICP刻蚀机:公司ICP刻蚀设备产品出货量保持高速增长。Primo nanova?刻蚀产品已经在超过15家客户的生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证,工艺覆盖3DNAND芯片、DRAM芯片及逻辑芯片,截止到2022年6月底,已经顺利交付超过220台反应腔,持续取得国际先进3DNAND客户批量订单。Primo Twin-Star?刻蚀设备订单数量持续增加,已进入更多客户端进行验证。深硅刻蚀设备Primo TSV200E?和300E?在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单的同时,也在3D芯片等新兴市场得到验证。

  MOCVD设备:收入稳步增长,Micro LED及第三代半导体有望带来新的业绩增量。公司蓝光照明Prismo A7?以及深紫外LED外延片Prismo HiT3?产品持续服务客户,用于高性能Mini LED量产的Prismo UniMax?产品已累计收到来自国内多家领先客户的批量订单合计180腔。同时,公司也正在开发针对Micro LED应用的专用设备,还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场,开发氮化镓功率器件量产应用的MOCVD设备,目前已交付国内外领先客户进行生产验证。此外,公司启动了应用于碳化硅功率器件专用设备的开发。

  薄膜沉积设备:钨填充CVD设备获得了阶段性进展,CVD、ALD和EPI设备开发稳步推进中。公司的钨填充CVD设备获得了阶段性进展,能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用,以及64层、128层和200层以上3DNAND中的多个关键应用,目前已通过关键客户的工艺验证,积极推进量产验证中。基于金属钨CVD设备,公司正进一步开发CVD和原子层沉积设备。公司外延设备(EPI)研发进展顺利,已进入样机的制造和调试阶段,面向28纳米及以下的逻辑器件、存储器件和功率器件等的广泛应用,满足先进制程中锗硅外延工艺需求。

  VOC净化设备与德国DAS签订战略合作协议。子公司中微惠创利用分子筛的吸附原理的化学反应器,开发制造了工业用大型VOC净化设备,已与德国DAS环境专家有限公司签订战略合作协议,双方在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作,共同推动环保科技行业的发展。

  盈利预测、估值与评级:中微公司是国内刻蚀设备和MOCVD设备的领军企业,我们持续看好公司雄厚的内生技术实力以及外延扩展能力,维持公司2022年的归母净利润为10.73亿元,考虑到ICP刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速,上调2023-2024年的归母净利润为14.06亿元(上调10.5%)、18.67亿元(上调21.2%),当前市值对应的PE值分别为84x、64x和48x,维持“买入”评级。

  风险提示:晶圆厂扩张不及预期,客户导入不及预期,技术研发不及预期。

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